申请条件：

• 主体资格：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，可依照相关条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，若首先在中国境内投入商业利用，或其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，也可享有布图设计权25.
• 独创性要求：集成电路布图设计必须具备独创性。即该布图设计是创作者依靠自己的脑力劳动完成的，设计必须是突破常规的独特设计，或者即使设计者使用常规设计，但通过不同的组合方式体现出独创性时，都可以获得法律保护25.

申请材料：

• 集成电路布图设计登记申请表：申请人需填写完整的登记申请表，包括申请人的基本信息、布图设计的名称、创作完成日期等内容25.
• 集成电路布图设计的复制件或者图样：应提供能清晰展示布图设计的复制件或图样，以便审查人员准确了解其设计内容25.
• 集成电路样品：若集成电路布图设计已投入商业利用，需提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。且在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交 4 件含有该集成电路布图设计的集成电路样品25.
• 其他材料：根据国家知识产权局的要求，可能还需要提交其他相关材料，例如布图设计的简要说明等，以更全面地阐述布图设计的特点、功能及创新点等2.

申请流程：

1. 准备材料：申请人按照上述要求准备齐全申请材料，并确保材料的真实性、完整性和准确性。
2. 提交申请：将准备好的申请材料提交至国家知识产权局。可以通过国家知识产权局政务服务平台（https://ggfw.cnipa.gov.cn/PatentCMSCenter/）进行网上提交，也可选择邮寄等方式提交申请材料45.
3. 形式审查：国家知识产权局收到申请后，会对申请材料进行形式审查，主要检查申请文件是否齐全、格式是否符合要求、申请费用是否缴纳等。若存在问题，会通知申请人在规定期限内补正。
4. 初审：形式审查合格后，进入初审阶段。初审主要对布图设计的独创性等实质性内容进行审查，判断其是否符合相关法规和条例的要求25.
5. 登记并公告：经初审合格的集成电路布图设计，国家知识产权局将予以登记，并在官方网站或相关公告平台上进行公告，公告期一般为 3 个月 。
6. 颁发证书：公告期满无异议或异议不成立的，国家知识产权局将颁发集成电路布图设计登记证书，申请人自登记申请之日起即享有集成电路布图设计专有权25.